陶瓷基板

主要的平面陶瓷基板工艺可分为薄膜陶瓷基板(TFC)、厚膜印刷陶瓷基板(TPC)、直接键合铜陶瓷基板(DBC)、活性金属焊接陶瓷基板(AMB)、直接电镀铜陶瓷基板(DPC)。主要的三维陶瓷基板分为高温共烧陶瓷基板(HTCC)和低温共烧陶瓷基板(LTCC)。我司可生产先进工艺氮化铝/氮化硅基板,可根据客户需求定制。

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一、产品介绍

氮化铝陶瓷基板:

具有优良的导热性、较低的介电常数和介质损耗,可靠的绝缘性能;

优良的力学性能,无毒,耐高温,耐化学腐蚀;

具有优良的热学、力学、电学性能,高导热率、高强度等特性;

与硅的热膨胀系数相近,更适合大功率大电流的应用场景

作为一种性能极强的陶瓷材料,受到人们的关注和重视,逐步成为中高端IGBT模块最优方案,其性能优越有望成为IGBT和SiC功率器件基板应用新趋势。我司生产的氮化铝陶瓷基板,广泛应用于通讯器件、高亮度LED、功率半导体器件等行业。

二、性能对比

1)热导率高,是氧化铝陶瓷的5-10倍,与剧毒氧化铍(BeO)相当;

2)热膨胀系数(4.3×10-6/℃)与半导体硅材料(3.5-4.0×10-6/℃)匹配;

3)机械性能好,抗弯强度高于BeO陶瓷,接近氧化铝;

4)电性能优良,具有极高的绝缘电阻和低的介质损耗;

5)电路材料的相容性好,可以进行多层布线,实现封装的高密度和小型化;

(6)无毒,有利于环保。

三、应用领域

(1) 光电通信器件

(2) LED行业

(3) 汽车电子功能模块

(4) 大功率电源模块

(5) 高频微波应用器件

(6) 电力、电子元器件

四、产品性能参数

五、常用规格书(可定制)